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韓国科学技術院(KAIST)は2月2日、リチウム金属電池の実用化を阻んできた「界面不安定性」を電子構造レベルで解決する技術を開発したと発表した。研究成果は材料・エネルギー分野の学術誌InfoMatに掲載された。電気自動車の普及が進む中、より高容量の電池への需要が高まっている。リチウム金属電池は既存のリチウムイオン電池の容量限界を超える次世代電池として注目されているが、充電時に針状結晶「デンドライト」が成長し、電池寿命の低下や発火リスクにつながることが実用化の障害となっていた。KAIST化学生命工学科のチェ・ナムスン(Nam Soon Choi)教授と材料科学工学科のホン・スンボム(Seungbum Hong)教授の研究チームは、高麗大学校のクァク・サンギュ(Sang Kyu Kwak)教授の研究チームと共同で、この原因とされる界面不安定性を電子構造レベルで制御する技術を開発した。(左上から)チェ・ナムスン(Nam Soon Choi)教授、 ホン・スンボム(Seungbum Hong)教授、 クァク・サンギュ(Sang Kyu Kwak)教授と研究チームメンバーら界面不安定性とは、充放電時に電極と電解質の境界が均一に保たれない現象である。その結果リチウムがデンドライト状に成長し、電池のサイクル特性低下や内部短絡、熱的不安定性を引き起こす。(出典：いずれもKAIST)研究チームは電解質にチオフェンを添加し、リチウムイオンが電極表面を安定して移動できる「共役構造を利用した界面保護層」を形成した。この層は電子構造が自律的に再編成され、リチウムイオンの移動に応じて電荷分布が変化し安定した移動経路を形成する。研究チームは密度汎関数理論(DFT)シミュレーションでこのメカニズムを解析し、既存添加剤より高い安定性を確認した。またin-situ原子間力顕微鏡(AFM)観察により、高電流条件でもリチウムが表面に均一に析出・除去されることを確認した。この技術により急速充電条件でもデンドライトの成長を抑制し電池寿命を延ばすことを確認した。研究では12分以内の急速充電と8mA/cm2を超える高電流動作も実現した。8mA/cm2は電極面積1cm²あたり8mAの電流が流れる条件を指す。チェ教授は「今回の研究は単なる材料改良ではなく、電子構造の設計によって電池の根本的な問題を解決する成果です。急速充電と長寿命を同時に実現する次世代電気自動車用電池の基盤技術になるでしょう」と述べた。サイエンスポータルアジアパシフィック編集部発表論文： Lee et al. (2026) Conjugation-mediated and polarity-switchable interfacial layers for fast cycling of lithium-metal batteries参考サイト(外部サイト)： ● 韓国科学技術院(KAIST) https://news.kaist.ac.kr/newsen/html/news/?mode=V&mng_no=58590JSTCopyright © Japan Science and Technology Agency source

投资者继续避险 马币跌至4.0243 – 财经 – 即时财经  Sin Chew Dailysource

Copyright 2025 – All Right Reserved. Sunday Guardian LiveBy: Sumit KumarLast Updated: March 29, 2026 20:55:44 ISTSchool Assembly News Headlines Today, 30 March 2026: Here are the important news headlines for today, March 30. These updates cover key national, international, sports, and general news to help you stay informed about what is happening around the…

オンラインビジネスに対する規制を強化する。  Vietnam.vnsource

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Last Friday (27th), Singapore’s Prime Minister and Minister for Finance Lawrence Wong, accompanied by Hong Kong’s Chief Secretary for Administration Eric Chan, Deputy Financial Secretary Michael Wong, Secretary for Development Ning Hon-ho, Secretary for Innovation, Technology and Industry Sun Dong, and Acting Secretary for Commerce and Economic Development Bernard Chan, visited the Hong Kong Park…

インド理科大学院(IISc)は2月23日、かゆみとストレスの関係に関わる脳内神経回路を特定したと発表した。研究成果は学術誌Cell Reportsに掲載された。かゆみと痛みはいずれも有害な刺激によって引き起こされる不快な感覚だが、痛みは回避行動を、かゆみは掻く行動を誘発する。ストレスや不安などの感情状態がこれらの感覚に影響することは知られていたが、ストレスがかゆみに与える影響の神経メカニズムは十分に解明されていなかった。本研究では、ストレスや感情状態の調節に関与する脳領域である視床下部外側野(LHA)に注目した。研究チームは遺伝子組み換えマウスモデルを用いて、急性ストレス時に活性化する特定のニューロン群を特定した。さらに、これらのニューロンを人工的に活性化すると、化学刺激による短期的なかゆみモデルと乾癬様の慢性かゆみモデルの両方で掻く行動が減少した。一方でこれらのニューロンを抑制すると、ストレスによるかゆみ抑制効果は消失した。これにより、このニューロンがストレスによるかゆみ抑制に必要かつ十分であることが示された。研究を主導したIISc神経科学研究センター(CNS)のアルナブ・バリック(Arnab Barik)助教授は、視床下部外側野の特定のニューロンが急性ストレス時のかゆみを抑制し、感情状態と感覚知覚を脳が直接結び付ける仕組みが明らかになったと説明した。また研究では、慢性炎症を伴う乾癬様モデルでは同じニューロンの活動が変化し、かゆみを抑制する機能が弱まる可能性も示された。慢性的なかゆみは世界で多くの患者が苦しむ症状であり、現在の治療は主に皮膚や免疫系を対象としているが、今回の成果は脳の神経回路を標的とした新たな治療法開発につながる可能性があると研究者らは語る。研究者らは、今回の研究は急性ストレスの一種を調べたものであり、さまざまな種類のストレスがかゆみにどのように影響するかについても、他の脳回路も関与している可能性が高いと指摘している。今後の研究では、これらのニューロンの分子特性を特定し、特に慢性疾患において、ストレス関連回路が長期的な時間スケールでどのように変化するかを解明することを目指している。サイエンスポータルアジアパシフィック編集部発表論文： Prajapati et al. (2026) Lateral hypothalamus directs stress-induced modulation of acute and psoriatic itch参考サイト(外部サイト)： ● インド理科大学院(IISc) https://www.iisc.ac.in/events/how-the-brain-suppresses-itch-during-stress/関連記事：JSTCopyright © Japan Science and Technology Agency source

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